High effenciency transmission masks for XUV nanostructuring and interference lithography

Jülich [u.a.] / Forschungszentrum Jülich ; RWTH Aachen University (2010) [Buchbeitrag]

JARA FIT Jülich Aachen Research Alliance for Fundamentals of Future Information Technologies : Annual Report 2009 / Eds.: Wolfgang Albrecht, Markus Morgenstern, Detlev Grützmacher
Seite(n): 43-44

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Brose, Sascha
Danylyuk, Serhiy
Juschkin, Larissa
Loosen, Peter
Moers, J.

Weitere Autorinnen und Autoren

Trellenkamp, St.
Panaitov, G.
Wambach, K.
Grützmacher, D.

Identifikationsnummern

  • REPORT NUMBER: RWTH-CONV-105570