XUV interference lithography for sub-10 nm patterning

Jülich [u.a.] / Forschungszentrum [u.a.] (2009) [Buchbeitrag]

Annual Report '08 : JARA FIT ; Jülich Aachen Research Alliance for Fundamentals of Future Information Technology / Forschungszentrum Jülich. RWTH Aachen University. M. Morgenstern ; D. Grützmacher
Seite(n): 49-50

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Danylyuk, Serhiy
Juschkin, Larissa
Brose, Sascha
Bergmann, Klaus
Loosen, Peter

Identifikationsnummern

  • REPORT NUMBER: RWTH-CONV-095576