Industrial photoresist development with the EUV laboratory exposure tool : mask fabrication, sensitivity and contrast

SPIE (2019) [Buchbeitrag, Beitrag zu einem Tagungsband]

International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019 / Editor(s): Toshiro Itani, Paolo A. Gargini, Patrick P. Naulleau, Kurt G. Ronse
Seite(n): 9 Seiten

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Brose, Sascha
Danylyuk, Serhiy
Grüneberger, Franziska
Gerngroß, Maik
Stollenwerk, Jochen Hugo

Weitere Autorinnen und Autoren

Schirmer, Matthias
Loosen, Peter

Identifikationsnummern