Optimized phase-shifting masks for high-resolution resist patterning by interference lithography

Bellingham, Wash / SPIE (2017) [Buchbeitrag, Beitrag zu einem Tagungsband]

[International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography, 2017-09-11 - 2017-09-14, Monterey, California, USA]
Seite(n): 104502A

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Brose, Sascha
Danylyuk, Serhiy
Bahrenberg, Lukas
Lebert, Rainer
Loosen, Peter

Weitere Autorinnen und Autoren

Juschkin, Larissa

Identifikationsnummern