Achromatic Talbot lithography with partially coherent extreme ultraviolet radiation: process window analysis

Bellingham, Wash / Spie (2016) [Fachzeitschriftenartikel]

Journal of micro/nanolithography, MEMS and MOEMS
Band: 15
Ausgabe: 4
Seite(n): 043502

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Brose, Sascha
Tempeler, Jenny
Danylyuk, Serhiy
Loosen, Peter
Juschkin, Larissa

Identifikationsnummern