Lloyd's mirror interference lithography with EUV radiation from a high-harmonic source

Tokyo / ¯Oy¯o Butsuri-Gakkai (2016) [Fachzeitschriftenartikel]

Applied physics express
Band: 9
Ausgabe: 7
Seite(n): 076701

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Kim, Hyun-su
Baksh, Peter
Odstrčil, Michal
Miszczak, Magdalena
Frey, Jeremy G.

Weitere Autorinnen und Autoren

Juschkin, Larissa
Brocklesby, William S.

Identifikationsnummern