Restorative Self-Image of Rough-Line Grids: Application to Coherent EUV Talbot Lithography

New York, NY / IEEE (2016) [Fachzeitschriftenartikel]

IEEE photonics journal
Band: 8
Ausgabe: 3
Seite(n): 2600209

Autorinnen und Autoren

Autorinnen und Autoren

Kim, Hyun-su
Li, Wei
Marconi, Mario C.
Brocklesby, William S.
Juschkin, Larissa