Analysis of distinct scattering of extreme ultraviolet phase and amplitude multilayer defects with an actinic dark-field microscope

Bellingham, Wash / SPIE (2015) [Buchbeitrag, Beitrag zu einem Tagungsband]

Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VI / Obert R. Wood; Eric M. Panning
Seite(n): 942229

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Bahrenberg, Lukas
Herbert, Stefan
Tempeler, Jenny
Maryasov, Aleksey
Hofmann, Oskar

Weitere Autorinnen und Autoren

Danylyuk, Serhiy
Lebert, Rainer
Loosen, Peter
Juschkin, Larissa

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