Fractional Talbot lithography with extreme ultraviolet light

Washington, DC / OSA, Optical Society of America (2014) [Fachzeitschriftenartikel]

Optics letters
Band: 30
Ausgabe: 24
Seite(n): 6969-6972

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Kim, Hyun-su
Li, Wei
Danylyuk, Serhiy
Brocklesby, William S.
Marconi, Mario C.

Weitere Autorinnen und Autoren

Juschkin, Larissa

Identifikationsnummern