Scalability limits of Talbot lithography with plasma-based extreme ultraviolet sources

Bellingham, Wash / SPIE (2013) [Fachzeitschriftenartikel]

Journal of micro/nanolithography, MEMS and MOEMS
Band: 12
Ausgabe: 3
Seite(n): 033002

Autorinnen und Autoren

Autorinnen und Autoren

Danylyuk, Serhiy
Loosen, Peter
Bergmann, Klaus
Kim, Hyun-su
Juschkin, Larissa

Identifikationsnummern