Cross characterization of ultrathin interlayers in HfO2 high-k stacks by angle resolved x-ray photoelectron spectroscopy, medium energy ion scattering, and grazing incidence extreme ultraviolet reflectometry

New York, NY / AIP (2012) [Fachzeitschriftenartikel]

Journal of vacuum science & technology / A, Vacuum, surfaces, & films
Band: 30
Ausgabe: 4
Seite(n): 041506

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Banyay, Matus
Juschkin, Larissa
Bersch, Eric
Franca, Daniel
Liehr, Michael

Weitere Autorinnen und Autoren

Diebold, Alain

Identifikationsnummern