Fundamentals and limits for the EUV emission of pinch plasma sources for EUV lithography

Bristol / IOP Publ. (2004) [Fachzeitschriftenartikel]

Journal of physics / D, Applied physics
Band: 37
Ausgabe: 23
Seite(n): 3213-3224

Autorinnen und Autoren

Autorinnen und Autoren

Krücken, Thomas
Bergmann, Klaus
Juschkin, Larissa
Lebert, Rainer

Identifikationsnummern