Optimization of a gas discharge plasma source for extreme ultraviolet interference lithography at a wavelength of 11 nm

Melville, NY / AIP (2009) [Fachzeitschriftenartikel]

Journal of applied physics
Band: 106
Ausgabe: 7
Seite(n): 073309

Autorinnen und Autoren

Autorinnen und Autoren

Bergmann, Klaus
Danylyuk, Serhiy
Juschkin, Larissa

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