Power scaling of an extreme ultraviolet light source for future lithography

Melville, NY / AIP (2008) [Fachzeitschriftenartikel]

Applied physics letters
Band: 92
Ausgabe: 18
Seite(n): 181501

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Wagenaars, Erik
Küpper, Felix Alexander
Klein, Jürgen
Neff, Willi
Damen, Marcel

Weitere Autorinnen und Autoren

van de Wel, Pieter
Vaudrevange, Dominik
Jonkers, Jeroen

Identifikationsnummern