Actinic EUV-Mask metrology: tools, concepts, components

Bellingham, Wa / SPIE (2011) [Beitrag zu einem Tagungsband]

27th European Mask and Lithography Conference : 18 - 19 January 2011, Dresden, Germany / organized by VDE/VDI GMM - the Society for Microelectronics, Micro- and Precision Engineering (Germany). Uwe F. W. Behringer, ed.
Seite(n): 79850-B, 6 S.

Autorinnen und Autoren

Ausgewählte Autorinnen und Autoren

Lebert, Rainer
Farahzadi, Azadeh
Diete, Wolfgang
Schäfer, David
Phiesel, Wolfgang

Weitere Autorinnen und Autoren

Wilhein, Thomas
Herbert, Stefan
Maryasov, Aleksey
Juschkin, Larissa
Esser, Dominik
Hoefer, Marko
Hoffmann, Dieter

Identifikationsnummern